Сканирующий электронный микроскоп с режимом низкого вакуума
Уникальная кострукция сканирующего электронного микроскопа EM6900 LV позволяет создавать атмосферу низкого вакуума в камере для образцов, эффективно снижая накопленный заряд.
Многоязычная операционная система, встроенная панель управления, возможность для пользователя управлять прибором с помощью мыши и клавиатуры, комплексный план послепродажного обслуживания с пожизненной технической поддержкой.
Особенности
◆ Высокое разрешение позволяющее проводить микроморфологические испытания большинства образцов, особенно подходит для образцов, на которые неудобно наносить проводящую пленку;
◆ Функция низкого вакуума;
◆ Предварительно центрированный катод из вольфрамовой нити открытого типа, дополнительная шестигранная нить накала;
◆ Отличное качество изображения, четкие детали и большая глубина резкости;
◆ Простота в эксплуатации, низкий уровень отказов, подходит для испытания нескольких образцов;
◆ Автоматические функции: нагрев электронной пушки, смещение, центрирование, фокусировка, яркость, контрастность, рассеивание, память рассеивания изображения и т.д;
◆ Автоматическая коррекция, автоматическое обнаружение неисправностей.
Область применения
Чувствительные образцы, такие как животные и растения, микроорганизмы, полупроводники и т.д.
Размеры
Электронно-оптическая колонна: 800×800×1850 (мм)
Блок электроники и управляющий компьютер: 1340×850×740 (мм)
Модификации
EBL (система электронно-лучевой литографии), столик для нагрева, крио столик, столик для растяжения, наноманипулятор.
Дополнительные детекторы
EDS (рентгеновский детектор энергодисперсионной спектроскопии), EBSD (детектор дифракции обратно рассеянных электронов), CL (катодолюминесцентный детектор)
Технические характеристики
Разрешение |
3 нм при 30 кВ (SE, high vacuum) 6 нм при 30 кВ (BSE, high and low vacuum) |
Увеличение |
Инвертированное увеличение: 6X ~ 300000X Отображаемое увеличение: определяется размером дисплея 127 мм*211 мм |
Электронная пушка |
Вольфрамовый катод с подогревом - Предварительно центрированный картридж с вольфрамовой нитью |
Ускоряющее напряжение |
0 ~ 30 Кв (регулируется плавно, шаг 0-10 кВ равен 100 В, а шаг выше 10 кВ равен 1 кВ) |
Система линз |
Трехуровневая электромагнитная линза (коническая линза) |
Диафрагма объектива |
Молибденовая диафрагма, регулируемая внешней вакуумной системой |
Столик для образцов |
Четырехосевой столик для образцов |
Диапазон перемещений X (авто) |
0 ~ 70 мм |
Y (авто) |
0 ~ 50 мм |
Z (авто) |
0 ~ 45 мм |
R (авто) |
360° |
T (вручную) |
-5° ~ 90° |
Максимальный диаметр образца |
175 мм |
Максимальная высота образца |
35 мм |
Детекторы | Высоковакуумный детектор вторичных электронов (SE) (с функцией защиты детектора)
Полупроводниковый четырехсегментный детектор обратного рассеяния электронов (BSE) CCD (ПЗС - прибор с зарядовой связью) |
Модификации |
EBL (система электронно-лучевой литографии), столик для нагрева, крио столик, столик для растяжения, наноманипулятор |
Дополнительные аксессуары |
EDS (рентгеновский детектор энергодисперсионной спектроскопии), EBSD (детектор дифракции обратно рассеянных электронов), CL (катодолюминесцентный детектор) |
Вакуумная система |
Турбомолекулярный насос, ротационный насос |
Режим низкого вакуума |
10~270 Па, плавная регулировка; время переключения вакуума менее 90 секунд |
Примеры снимков