Аксессуары и приставки

6-позиционный (12-позиционный) автоматический сменщик образцов

Смена образцов осуществляется путем перемещения держателей проб по окружности с помощью шагового двигателя и управляется программируемым логическим контроллером (ПЛК). Система автоматически и непрерывно измеряет образцы и автоматически сохраняет данные. Одновременно можно загрузить 6 или 12 образцов для непрерывного измерения.

Многофункциональное интегрированное измерительное устройство TZG-5  

Конструкция установлена на широкоугольном спектрометре, который может осуществлять анализ пластинчатых и блочных материалов, мембран на подложках для определения фазы кристалла, ориентации, и т.д. Его можно использовать для определения текстуры, нагрузки, структуры поверхности пленки и в других исследованиях. 

Особенности: 

Полярографическое испытание с использованием пропускания или отражения. Испытание может быть выполнено с использованием метода наклона. Тестирование пленки (вращение образца в плоскости).

Функциональные характеристики: 

- Проведение испытания полярной диаграммы методом пропускания и отражения；

- Проведение испытаний нагрузки методом параллельного погружения；

- Пленочное испытание (вращение образца в плоскости).

Область применения: 

- Оценка агрегатной структуры металлов, таких как листовой прокат；

- Оценка керамических материалов;

- Оценка предпочтительной ориентации образцов тонкой пленки;

- Испытание на остаточную нагрузку различных металлических и керамических материалов (оценка износостойкости, сопротивление резке и т.д.)；

- Испытание многослойной пленки на устойчивость к нагрузкам (оценка отслаивания пленки и т.д.)；

- Анализ окисления и азотирования пленок на поверхности из высокотемпературного сверхпроводящего материала и металлической пластины；

- Анализ основных многослойных пленок из стекла, кремния, металла (магнитная пленка, пленка с упрочненной поверхностью металла и т.д.)；

- Анализ макромолекулярных материалов, бумаги, линз и других гальванических материалов.

Технические параметры:

Ось Α (наклон): Диапазон перемещения -45° ~ 90°, меньшая длина шага 0,001°/шаг.

Ось β (вращение в плоскости): Диапазон перемещения 0° ~ 360°, малая длина шага 0,001°/шаг.

Ось X: Диапазон перемещения: Диапазон перемещения ± 10 мм, малая длина шага 0,001 мм / шаг.

Ось Y: Диапазон перемещения：Малая длина шага 0,001 мм/шаг.

Ось Z: (вращение вперед и назад): Диапазон перемещения ±10 мм, малая длина шага 0,001 мм/шаг.

Размер образцов: более крупный средний размер 40 мм, толщина 10 мм.

Приставка вращения образца 

Приставка нужна для вращения образца в своей плоскости, что позволяет избежать ошибок, вызванных наличием крупных зерен. При измерении образцов с выраженной текстурой и габитусом кристаллов, вращение образца позволяет обеспечить хорошую интенсивность дифракции и исключить ошибку из-за предпочтительной ориентации.

Технические параметры:

Метод вращения: ось β (плоскость образца).

Скорость вращения: 1 ~ 60 об/мин.

Минимальный шаг вращения: 0,1 градуса.

Режим работы: вращение с фиксированной скоростью (шаговое, непрерывное).

Графитовый монохроматор

Монохроматор представляет собой блок рентгеновской оптики, установленный после источника рентгеновского излучения (рентгеновской трубки), который пропускает через себя только рентгеновское излучение Kα спектра, получая монохроматизированный рентгеновский пучок. С помощью этого устройства можно излучение Kβ спектра и флуоресцентное рентгеновское излучение и проводить рентгенодифракционный анализ с высоким соотношением сигнала и шума. При использовании рентгеновской трубки с медной мишенью и соответствующего монохроматора можно исключить флуоресцентные рентгеновские лучи, генерируемые образцами на основе Mn, Fe, Co и Ni, что может быть использовано для анализа различных объектов.

Технические параметры: 

Тип кристалла-монохроматора: графитовый изогнутый кристалл или плоский кристалл.

Отражательная способность: η≥35%.

Тест сканирования

ω-сканирование пленки (анализ кривой качания);

ω-сканирование дифракционного пика пленки (0.0.1).

На рисунке отметка * обозначает пик подложки, а остальные пики - дифракционные пики поверхности пленки (001). 

Требования к испытаниям: требуется для точного определения угла смещения подложки.

Приставка малоугловой дифракции

При наличии даннной приставки можно проводить дифракцию под малыми углами в диапазоне от 0 до 5 градусов для проверки толщины многослойных нанопленок.

Многофункциональная приставка для образцов

Данная приставка позволяет исследовать как порошкообразные объекты,так и хлопья, образцы большого размера или образцы неправильной формы, которые невозможно разрезать или измельчить в порошок.

Приставка для формирования параллельного пучка

Приставка представляет собой рентгеновскую оптику, которая формирует параллельный рентгеновский пучок, применяемый для исследования  тонких пленок. За счет увеличения длины решетки отфильтровывается больше рассеянных лучей, что позволяет уменьшить влияние сигнала подложки на результат и повысить интенсивность сигнала тонкой пленки.

Рентгеновские трубки

Горфированные керамические, металлокерамические и стеклянные трубки для аналитических приборов подходят для различных типов XRD, XRF, кристаллоанализаторов и приборов для определения ориентации кристаллов.

Технические параметры:

Материалы рентгеновских трубок: Cu, Co, Fe, Cr, Mo, Ti, W и так далее.

Тип фокуса: 0,2 х 12 мм2, 1 х 10 мм2 или 0,4 х 14 мм2 (тонкий фокус).

Максимальная выходная мощность: 2,4 кВт или 2,7 кВт.

Высокотемпературная приставка 

Данная приставка используется, как для исследования изменений кристаллической структуры образцов при высокотемпературном нагреве, так и изменения взаимного растворения различных веществ.

Технические параметры:

Настройка температуры:

В среде инертного газа от комнатной температуры до 1200°C.

В вакуумной среде максимальная температура до 1600°C.

Точность контроля температуры: ±0,5°C.

Материал окна: полиэфирная пленка.

Метод охлаждения приставки: циркуляционное охлаждение деионизированной водой.

Приставка для средних и низких температур 

Данная приставка позволяет исследовать изменение кристаллической структуры образцов при криогенном охлаждении.                              

Технические параметры:

Настройка температуры: В вакуумной среде в диапазоне от -196~500℃.

Точность контроля температуры: ±0,5°C.

Охлаждение образца: жидкий азот (расход менее 4 л/ч).

Материал окна: полиэфирная пленка.

Метод охлаждения приставки: циркуляционное охлаждение деионизированной водой.